21.02.2003
TIFGA veröffentlicht Stellungnahme zum Vorfall in der Anlage in Tokio
TIFGA hat heute eine Stellungnahme zu den jüngsten Medienberichten über einen Vorfall in ihrer Forschungseinrichtung in Tokio veröffentlicht.
Entgegen spekulativen Berichten, handelte es sich bei dem Vorfall um einen lokalen technischen Systemausfall, der zu einer kleinen internen Explosion in einem nicht für Forschungszwecke genutzten Bereich des Gebäudes führte. Der Vorfall konnte schnell unter Kontrolle gebracht und die Notfallmaßnahmen umgehend eingeleitet werden.
„Die strukturelle Integrität der Anlage war zu keinem Zeitpunkt beeinträchtigt“, sagte ein Sprecher von TIFGA. „Es bestand keine Gefahr für die umliegenden Gebiete oder die Öffentlichkeit.“
TIFGA bestätigte, dass eine begrenzte Anzahl von Mitarbeitern vorsorglich evakuiert wurde und dass keine schwerwiegenden Verletzungen gemeldet wurden.
Das Institut wies Behauptungen, wonach sich zum Zeitpunkt des Vorfalls maskierte Personen in oder um die Einrichtung aufgehalten hätten, kategorisch zurück und erklärte, solche Beschreibungen seien unbegründet und stünden im Widerspruch zu verifizierten Sicherheitsaufnahmen und Zugangsprotokollen.
Berichte über einen angeblich aus dem Gebäude stammenden, gestörten Notruf wurden auf Signalstörungen zurückgeführt, die durch den Systemausfall verursacht wurden und die interne Kommunikation vorübergehend beeinträchtigten.
TIFGA betonte, dass die Anlage in Tokio die japanischen Sicherheitsvorschriften vollständig einhält und regelmäßigen Kontrollen durch die örtlichen Behörden unterliegt. Eine interne technische Überprüfung wurde routinemäßig eingeleitet.
„Vereinzelte technische Störungen sind zwar bedauerlich, aber in komplexen Forschungsumgebungen nicht ungewöhnlich“, fügte der Sprecher hinzu. „Sie sollten nicht fälschlicherweise als Sicherheitsvorfälle interpretiert werden.“
Die Anlage in Tokio hat inzwischen den Normalbetrieb wieder aufgenommen.
TIFGA wird sich nicht weiter äußern, solange keine neuen, verifizierten Informationen vorliegen.
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